TTA-phen-吐温80胶束增溶体系荧光分析法测定痕量钐和铕 |
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引用本文: | 黄汉国,刘恩博,段文仲.TTA-phen-吐温80胶束增溶体系荧光分析法测定痕量钐和铕[J].分析试验室,1985(11). |
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作者姓名: | 黄汉国 刘恩博 段文仲 |
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作者单位: | 河北矿冶学院
(黄汉国,刘恩博),河北化工学院(段文仲) |
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摘 要: | 2-噻吩甲酰三氟丙酮(TTA)和诸如三正辛基氧化膦(TOPO)、邻菲罗啉(phen)等中性附加配位体所组成的协同萃取体系已应用于荧光分析法测定钐和铕,该体系选择性、灵敏度均颇高,适用于岩石、矿物、生物体的分析,但需使用有机溶剂。竹田津等将非离子表面活性剂用于荧光分析,免去了有机溶剂萃取操作,方法简便,如:TTA-TOPO-TritonX-100体系荧光法测定钐、铕,PTA(三氟乙酰特戊酰甲烷)-TOPO-BL-9EX体系荧光法测定钐、铕、铽等。本文使用phen代替TOPO,以非离子表面活性剂吐温80为增溶剂,研究了TTA-phen-吐温80体系荧光法测定钐和铕的最佳条件、干扰离子影响及回收率,均取得较为满意的结果。
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