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| X荧光“NRLXRF”程序在薄膜分析中的应用 | |
| 引用本文： | 郝贡章,吴长存,许佩珍,王文爽.X荧光“NRLXRF”程序在薄膜分析中的应用[J].分析试验室,1987(9). |
| 作者姓名： | 郝贡章 吴长存 许佩珍 王文爽 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院 (郝贡章，吴长存，许佩珍)，北京有色金属研究总院(王文爽) |
| 摘 要： | 本法用X荧光“NRLXRF”程序,仅需一个固体薄膜标准或滤纸片薄样混合标准就可测定原子比从0.x—8范围的Nb-Ge超导薄膜试样,其准确度能达到经验系数法的水平。用纯元素块状标样测定了Nb Ge薄膜及高温合金Ae-Cr-Si和Ti-Cr Si薄膜试样,也得到了满意的结果。方法均已投入了实际试样的配合分析。 |
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