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抗坏血酸和尿酸在CPB现场修饰碳糊电极上的电化学行为及其选择性测定应用
引用本文:韩晓霞,梁斌,高作宁,郑志祥.抗坏血酸和尿酸在CPB现场修饰碳糊电极上的电化学行为及其选择性测定应用[J].分析试验室,2007,26(3):30-33.
作者姓名:韩晓霞  梁斌  高作宁  郑志祥
作者单位:宁夏大学能源化工重点实验室,化学化工学院,银川,750021
基金项目:教育部科研项目 , 宁夏大学校科研和教改项目
摘    要:研究了抗坏血酸(AA)和尿酸(UA)在裸碳糊电极(CPE)和溴化十六烷基吡啶(CPB)现场修饰碳糊电极(CPB/CPE)上的电化学行为.研究结果表明,在PBS水溶液中,AA和UA在CPB/CPE上氧化峰电流增加,峰电位负移,CPB/CPE对AA,UA电化学氧化反应产生了催化作用.微分脉冲法研究表明,在AA和UA共存体系中,AA和UA的氧化峰电位相差约220 mV,以此建立了AA和UA的电化学选择性测定方法.AA和UA的微分脉冲伏安氧化峰电流和其相应浓度分别在7.0×10-6~6.0×10-3 mol/L和5.0×10-7~6.0×10-4 mol/L的范围内呈良好的线性关系.在200倍AA共存时UA的检出限为5.0×10-6 mol/L,CPB修饰的碳糊电极直接应用于实际尿样中UA的测定.

关 键 词:抗坏血酸  尿酸  溴化十六烷基吡啶  碳糊电极  现场修饰
文章编号:1000-0720(2007)03-030-04
修稿时间:2006-05-102006-07-27

Electrochemical behaviors of ascorbic acid and uric acid at CPB in situ modified carbon paste electrodes and their application in selective determination
HAN Xiao-xia,LIANG Bin,GAO Zuo-ning,ZHENG Zhi-xiang.Electrochemical behaviors of ascorbic acid and uric acid at CPB in situ modified carbon paste electrodes and their application in selective determination[J].Chinese Journal of Analysis Laboratory,2007,26(3):30-33.
Authors:HAN Xiao-xia  LIANG Bin  GAO Zuo-ning  ZHENG Zhi-xiang
Institution:Key laboratory of Energy Sources and Chemical Engineering, College of Chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021
Abstract:
Keywords:Aseorbic acid  Uric acid  Cetylpyrid bromide  Carbon paste electrode  In situ modification
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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