| 可见光响应光催化剂研究进展* |
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| 引用本文： | 陈崧哲,张彭义,祝万鹏,刘福东.可见光响应光催化剂研究进展*[J].化学进展,2004,16(4):613-619. |
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| 作者姓名： | 陈崧哲 张彭义 祝万鹏 刘福东 |
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| 作者单位： | (清华大学环境科学与工程系 北京 100084) |
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| 基金项目： | 中国博士后科学基金 (中博基 (2 0 0 2 ) 17)，国家高技术研究发展专项经费资助 (No .2 0 0 2AA6 0 12 5 0 )，国家自然科学基金重点项目 (No.5 0 2 380 2 0 )资助 |
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| 摘 要： | 本文综述了近年来可见光响应光催化剂的研究进展,从窄禁带半导体开发、表面光敏化和离子掺杂三个方面,详细探讨了该类光催化剂的构成原理、设计思想、制备方法、目前效果及缺点,展望了该领域的研究前景.
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| 关 键 词： | 可见光响应光催化剂 半导体 窄禁带半导体 离子掺杂 光敏化 |
| 文章编号： | 1005-281X(2004)04-0613-07 |
| 收稿时间： | 2003-04-01 |
| 修稿时间： | 2003年4月1日 |
Progress in Visible Light Responding Photocatalysts |
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| Chen Songzhe,Zhang Pengyi,Zhu Wanpeng,Liu Fudong.Progress in Visible Light Responding Photocatalysts[J].Progress in Chemistry,2004,16(4):613-619. |
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| Authors: | Chen Songzhe Zhang Pengyi Zhu Wanpeng Liu Fudong |
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| Institution: | (Department of Environmental Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China) |
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| Abstract: | The latest research progress in visible light responsible photocatalysts is reviewed. The principle, design idea, preparing method, effects and shortcomings of the concerned materials are discussed in detail. |
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| Keywords: | visible light responding photocatalyst semiconductor narrow gap semiconductor ion doping photo-sensitization |
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