首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

氮化硅粉中微量杂质金属的ICP-AES测定
引用本文:陶连发.氮化硅粉中微量杂质金属的ICP-AES测定[J].分析测试学报,1990(2).
作者姓名:陶连发
作者单位:杭州国家海洋局第二海洋研究所
摘    要:本文论述了应用ICP-AES法测定氮化硅中微量杂质元素的分析技术,考察了样品处理及元素间相互干扰。采用板波模式超声雾化进样、去溶剂技术,ICP-AES法同时测定Si_3N_4中Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Mo、Sr、Ti、V和Zr十二种杂质元素。各元素相对标准偏差为2.5~9.8%,回收率为84~108%。

关 键 词:氮化硅  微量杂质元素  感耦等离子体发射光谱

Determination of Impurities in Hot-Pressed Silicon Nitride by ICP-AES
Tao Lianfa The Second Institute Of Oceanography,SOA,Hangzhou.Determination of Impurities in Hot-Pressed Silicon Nitride by ICP-AES[J].Journal of Instrumental Analysis,1990(2).
Authors:Tao Lianfa The Second Institute Of Oceanography  SOA  Hangzhou
Abstract:
Keywords:ICP-AES  Si_3N_4  trace impurities
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号