| 甲酸和乙酸在二氧化锆表面化学吸附的光电子能谱研究 |
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| 引用本文： | 徐富春,陈宝珠.甲酸和乙酸在二氧化锆表面化学吸附的光电子能谱研究[J].分析测试学报,1997,16(6):30-32. |
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| 作者姓名： | 徐富春 陈宝珠 |
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| 作者单位： | 厦门大学分析测试中心!厦门361005(徐富春，王水菊)，厦门大学科学仪器系(陈宝珠) |
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| 摘 要： | 利用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和紫外光电子能谱（ＵＰＳ）等表面分析方法，表征了甲酸和乙酸在ＺｒＯ２表面 的反应和吸附态。室温下，甲酸在ＺｒＯ２表面以ＨＣＯＯ－（ａ）的形态被吸附，部分ＨＣＯＯ－（ａ）进一步分解产生Ｏ~(２－)（ａ）， ＨＣＯ（ａ）和ＣＨ_ｘ（ａ），加热有利于表面甲酸根的分解。乙酸在ＺｒＯ２表面的反应与甲酸相似。甲酸和乙酸在ＺｒＯ２表面 的吸附实质就是表面酸碱中和反应。
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| 关 键 词： | 甲酸 乙酸 二氧化锆 表面 化学吸附 光电子能谱 分解 |
ESCA Studies on Adsorption and Decomposition of Formic and Acetic Acids ZrO_2 Surfaces |
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| Xu Fuchun,Wang Shuiju,Chen Baozhu.ESCA Studies on Adsorption and Decomposition of Formic and Acetic Acids ZrO_2 Surfaces[J].Journal of Instrumental Analysis,1997,16(6):30-32. |
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| Authors: | Xu Fuchun Wang Shuiju Chen Baozhu |
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| Abstract: | The adsorption and decomposition of formic and acetic acids on ZrO2 surfaces were studied by photoelectron spectroscopy (XPS and UPS) .At room temperature,formic acid is adsorbed on ZrO2 surface in the form of HCOO-(a),part of which are further decomposed into O~2-(a), HCO(a) and CHx(a), heating is favorable to decomposition of formic radical. The reaction of acetic acid on ZrO2 surface is similarto that of formic acid.The reactions of formic and acetic acids on ZrO2 surfaces are essentially a neutralization reaction of acid and base. |
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| Keywords: | ESCA Formic acid Acetic acid ZrO_2 Surface Adsorption Decomposition |
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