首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征
引用本文:刘晓云,赵辉鹏,李兰,阎捷,查刘生.二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征[J].分析测试学报,2006,25(6):5-9.
作者姓名:刘晓云  赵辉鹏  李兰  阎捷  查刘生
作者单位:1. 东华大学,纤维材料改性国家重点实验室,上海,200051
2. 东华大学,分析测试中心,上海,200051
3. 东华大学,纤维材料改性国家重点实验室,上海,200051;东华大学,分析测试中心,上海,200051
基金项目:教育部科学技术研究重点项目
摘    要:采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅(SiO2)纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对SiO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP/MASNMR和^29Si CP/MASNMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征,以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上。分析修饰过的SiO2纳米粒子的^29Si CP/MASNMR和FTIR谱图,还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面,最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。

关 键 词:SiO2纳米粒子  表面修饰  甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯  表征
文章编号:1004-4957(2006)06-0005-05
收稿时间:2005-10-17
修稿时间:2006-07-21

Surface-modification and Characterization of Silica Nanoparticles
LIU Xiao-yun,ZHAO Hui-peng,LI Lan,YAN Jie,ZHA Liu-sheng.Surface-modification and Characterization of Silica Nanoparticles[J].Journal of Instrumental Analysis,2006,25(6):5-9.
Authors:LIU Xiao-yun  ZHAO Hui-peng  LI Lan  YAN Jie  ZHA Liu-sheng
Institution:State Key Laboratory for Modification of Chemical Fibers and Polymer Materials, Donghua University, Shanghai 200051, China; 2. Research Center for Analysis and Measurement, Donghua University, Shanghai 200051, China
Abstract:
Keywords:SiO_2 nanoparticles  Surface-modification  3-(Trimethoxysilyl)propyl methacrylate(MPS)  Characterization
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号