| SiO2/SiNx:H选择性刻蚀改善光诱导化学镀/电镀多晶硅太阳能电池过镀现象 |
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| 引用本文： | 李涛,周春兰,宋洋,张磊,惠俊,杨海峰,郜志华,段野,李友忠,励旭东,许颖,赵雷,刘振刚,王文静.SiO2/SiNx:H选择性刻蚀改善光诱导化学镀/电镀多晶硅太阳能电池过镀现象[J].化学学报,2011,69(7):848-852. |
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| 作者姓名： | 李涛 周春兰 宋洋 张磊 惠俊 杨海峰 郜志华 段野 李友忠 励旭东 许颖 赵雷 刘振刚 王文静 |
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| 作者单位： | (1太阳能热利用及光伏系统重点实验室 中国科学院电工研究所 北京 100190)
(2中轻太阳能电池有限责任公司 北京 101111)
(3广州确信乐思化学贸易有限公司 广州 518055)
(4中国检验检疫科学研究院 北京 100123)
(5北京市太阳能研究所 北京 100083) |
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| 基金项目： | 中国科学院知识创新工程重要方向，国家高技术研究发展计划 |
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| 摘 要： | 自对准的光诱导化学镀/电镀技术以其栅线宽度小、工艺快捷高效等优点, 成为制备选择性发射极太阳能电池的理想选择. 然而, 该技术的前序需要HF溶液有效去除重掺杂区表面SiO2的同时, 避免在SiNx:H掩模上刻蚀出微孔而露出衬底的硅, 否则金属镍和银会在光诱导化学镀/电镀工艺中沉积在微孔中, 导致过镀现象. 这就要求预处理溶液对SiO2/SiNx:H有很高的选择性刻蚀. 本工作根据实验结果分析了产生过镀现象的原因, 研究了进行SiO2/SiNx:H选择性刻蚀的可行性. 依据HF刻蚀SiO2和SiNx:H的机理, 通过调节HF缓释溶液的pH值, 改善了多晶硅太阳能电池的过镀现象.
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| 关 键 词： | 过镀 选择性刻蚀 光诱导化学镀/电镀 多晶硅太阳能电池 |
SiO2/SiNx:H Selective Etching Improving Light-induced Electroless Plating/Electro-plating Multicrystalline Solar Cells Over-plating Phenomenon |
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| Li Tao,Zhou Chunlan,Song Yang,Zhang Lei,Hui Jun,Yang Haifeng,Gao Zhihua,Duan Ye,Li Youzhong,Li Xudong,Xu Ying,Zhao Lei,Liu Zhengang,Wang Wenjing.SiO2/SiNx:H Selective Etching Improving Light-induced Electroless Plating/Electro-plating Multicrystalline Solar Cells Over-plating Phenomenon[J].Acta Chimica Sinica,2011,69(7):848-852. |
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| Authors: | Li Tao Zhou Chunlan Song Yang Zhang Lei Hui Jun Yang Haifeng Gao Zhihua Duan Ye Li Youzhong Li Xudong Xu Ying Zhao Lei Liu Zhengang Wang Wenjing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | over-plating selective etching light-induced electroless plating/electro-plating multicrystalline silicon solar cells |
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