| 溅射气体中氩气含量对Y1Ba2Cu3O7-δ薄膜结构和Tc的影响 |
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| 引用本文： | 李季,王小平,王霈文,齐善学,李弢,古宏伟.溅射气体中氩气含量对Y1Ba2Cu3O7-δ薄膜结构和Tc的影响[J].中国稀土学报,2003,21(Z1):41-43. |
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| 作者姓名： | 李季 王小平 王霈文 齐善学 李弢 古宏伟 |
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| 作者单位： | 北京有色家属研究总院超导中心,北京,100088 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划"863"(22002AA306131)项目 |
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| 摘 要： | 采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜.样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相, 同时显示薄膜的c轴长度, (006), (007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变.通过薄膜超导零电阻温度检测发现, YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变.这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中, 溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比, Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变, 恶化超导电性.
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| 关 键 词： | Y1Ba2Cu2O7-δ (YBCO)薄膜 溅射气体组分 (Ar/O2) 超导零电阻温度 |
| 文章编号： | 1000-4343(2003)-0041-03 |
| 修稿时间： | 2003年2月27日 |
Influence of Ar Ratio in Sputtering Gas on Structure and Tc of Y1Ba2Cu3O7-δ Thin Film |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | (Ar/O2) |
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