国际稀土钴永磁及其应用会议简介

稀土钴永磁是近二十年来发展起来的一种性能优良的新型永磁材料,是由稀土和钴及其它金属制造成的。国外从1959年开始研究这种材料,1966年开始发表专利,并很快地在电机、机械、电子技术、通讯以及各种民用和医疗技术等方面得到广泛的应用。 第一届国际稀土钴永磁及其应用会议于1974年在美国俄亥俄(Ohio)州的道顿(Dayton)大学召开。会议是由道顿大学的K.J.Strnat教授发起组织的,出席人数共有139人,但大多数是美国人。1976年又在该校召开了第二届会议,有153人出席。第三届会议于1978年在美国加州大学召开,到会约200人。第四届会议于1979年在日本的箱根举行,到会217人。第五届会议于1981年又在美国召开,有227人参加。第六届会议于1982年在奥地利维也纳附近的巴登举行,到会155人。