| 极谱杂多酸吸附波测定合金中硅 |
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| 引用本文： | 陈立义,黄诚.极谱杂多酸吸附波测定合金中硅[J].分析化学,1989(10). |
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| 作者姓名： | 陈立义 黄诚 |
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| 作者单位： | 吉首大学化学系，吉首大学化学系 湖南吉首，41600，湖南吉首，41600 |
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| 摘 要： | 在pH2—4的盐酸介质中,硅(Ⅳ)、锑(Ⅲ)与铝(Ⅵ)形成三元杂多酸,此三元杂多酸在0.4mol/L的HCl中能迅速在滴汞电极上还原而产生灵敏的极谱电流。其峰电位为-0.30V(vs.SCE)。测定下限是8×10~(-8)mol/L。
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| 关 键 词： | 示波极谱 杂多酸 硅 合金 |
OSCILLOPOLAROGRAPHIC ADSORPTIVE WAVE OF HETEROPOLY ACID FOR DETERMINATION OF SILICON IN ALLOYS |
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| Chen Liyi Huang Cheng.OSCILLOPOLAROGRAPHIC ADSORPTIVE WAVE OF HETEROPOLY ACID FOR DETERMINATION OF SILICON IN ALLOYS[J].Chinese Journal of Analytical Chemistry,1989(10). |
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| Authors: | Chen Liyi Huang Cheng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Oscillopolarographic adsorptive wave Heteropoly acid Silicon Alloys |
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