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| 用全反射X荧光技术分析釉药粉末 | |
| 引用本文： | 刘恺,邬旭然.用全反射X荧光技术分析釉药粉末[J].分析化学,1998,26(3):370-370. |
| 作者姓名： | 刘恺 邬旭然 |
| 作者单位： | 烟台大学物理系 |
| 摘 要： | １引言在微量痕量元素分析方面，全反射Ｘ荧光（ＴＸＲＦ）分析技术被认为是八十年代发展起来的最有竞争能力的分析手段，在原子谱仪中处于领先地位。我们从八十年代开始从事ＴＸＲＦ的研究，并于１９９３年自制出一台双激发源双光路全反射Ｘ荧光分析装置。几年来我们在许多领域里开展了应用研究。对水、油、头发、动物、古铜器、矿石粉、高纯材料、人工晶体等进行了分析实验。釉药是生产陶瓷的重要原料，需要好的配方并进行质量控制。但是，釉药粉末是多种原料的混合物，含有Ｓｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｓ等多种元素，难以消解，不易配成均匀的溶… |
| 关 键 词： | 全反射X荧光 釉药 分析 釉料 TXPF |
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