| 辅酶I在钴/玻碳离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用研究 |
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| 引用本文： | 马晓梅,胡劲波,尚军,李启隆.辅酶I在钴/玻碳离子注入修饰电极上的电化学行为及其应用研究[J].分析化学,2004,32(8):1027-1030. |
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| 作者姓名： | 马晓梅 胡劲波 尚军 李启隆 |
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| 作者单位： | 北京师范大学化学系,北京,100875;北京师范大学化学系,北京,100875;北京师范大学化学系,北京,100875;北京师范大学化学系,北京,100875 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (No .2 0 2 75 0 0 7) |
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| 摘 要： | 辅酶I(NAD)在 0 .0 0 5mol/LTris 0 .0 1mol/LNaCl(pH =7.0 )缓冲溶液中 ,在Co/GC离子注入电极上有一良好的伏安还原峰 ,峰电位Ep=- 1 .0 7V (vs .SCE)。其峰电流与辅酶I (NAD)的浓度在 5 .0× 1 0 -5～ 1 .0×l0 -3 mol/L范围内呈线性关系 ;检出限为 2 .5× 1 0 -5mol/L ;回收率在 98.8%～ 1 0 1 .9%之间。用线性扫描和循环伏安法等方法研究该体系的电化学行为 ,实验表明 :该体系具有吸附性和催化性的不可逆过程。根据Laviron理论 ,求得电极表面反应速率常数Ks=0 .0 77/s;电子转移系数α =0 .4 35。
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| 关 键 词： | 辅酶Ⅰ 离子注入 修饰电极 电化学行为 |
Electrochemical Behavior of Coenzyme I and Its Application on Glassy Carbon Ion Implantation Modified Electrode |
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| Ma Xiaomei,Hu Jinbo ,Shang Jun,Li Qilong.Electrochemical Behavior of Coenzyme I and Its Application on Glassy Carbon Ion Implantation Modified Electrode[J].Chinese Journal of Analytical Chemistry,2004,32(8):1027-1030. |
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| Authors: | Ma Xiaomei Hu Jinbo Shang Jun Li Qilong |
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| Institution: | Ma Xiaomei,Hu Jinbo *,Shang Jun,Li Qilong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Coenzyme I ion implantation modified electrode electrochemical behavior |
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