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| 流动注射-邻菲啰啉协同催化化学发光法测定痕量的铜 | |
| 引用本文： | 张悟铭,钟时明,胡和金,龚建议.流动注射-邻菲啰啉协同催化化学发光法测定痕量的铜[J].分析化学,1989(10). |
| 作者姓名： | 张悟铭 钟时明 胡和金 龚建议 |
| 作者单位： | 武汉大学化学系，武汉大学化学系，武汉大学化学系，武汉大学化学系 武汉，430072，武汉，430072，武汉，430072，武汉，430072 |
| 摘 要： | 本文拟订了邻菲啰啉-CTMAB-H_2O_2-Co(Ⅱ)-Cu(Ⅱ)协同催化化学发光体系流动注射测定痕量Cu(Ⅱ)的新方法。方法的检出限为8×10~(-12)g/ml Cu(Ⅱ),线性范围为1×10~(-10)-4×10~(-8)g/ml Cu(Ⅱ),相对标准偏差为0.9％分析速度为160样/小时。本法用于头发和水样中Cu(Ⅱ)的测定取得了满意的结果。 |
| 关 键 词： | 铜、流动注射分析 邻菲哕啉 化学发光 |
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