以N_2作冷却气的小功率和低气流ICP光源性能之研究 |
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引用本文: | 何志壮.以N_2作冷却气的小功率和低气流ICP光源性能之研究[J].分析化学,1983(3). |
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作者姓名: | 何志壮 |
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作者单位: | 冶金部有色金属研究总院 |
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摘 要: | 一、前言 Greenfield等所使用的高功率(4—15千瓦)、低频率(7兆赫)N_2—Ar ICP和Fassel、Boumans所使用的低功率(0.5—2.5千瓦)、高频率(27—50兆赫)的Ar ICP是当今发射光谱分析用的电感耦合高频等离子体的两大类型,这两类ICP都具有良好的分析性能,并已广泛应用于分析工作。但从气体的消耗量和分析设备的成本来看,前者通常消耗N_2 20—70升/分,Ar 10—35升/分,且高功率发生器结构复杂,成本较高;而后者仅消耗Ar 10—20升/分,似乎更可取一些。
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