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| 过氧化氢氧化硫酸耐尔蓝催化褪色光度法测定痕量硅 | |
| 引用本文： | 刘佳铭,姜玉颖,叶丹.过氧化氢氧化硫酸耐尔蓝催化褪色光度法测定痕量硅[J].分析化学,2004,32(7):982-982. |
| 作者姓名： | 刘佳铭 姜玉颖 叶丹 |
| 作者单位： | 漳州师范学院化学系,漳州,363000;漳州师范学院化学系,漳州,363000;漳州师范学院化学系,漳州,363000 |
| 摘 要： | 测定痕量硅的方法有硅钼蓝光度法、间接原子吸收光谱法、硅钼蓝杂多酸极谱法、流动注射示差动力学化学发光法、硅钼蓝．罗丹明B离子缔合物分光光度法、阻抑．褪色光度法、硅锑钼杂多酸．罗丹明B四元络合体系光度法、乙基罗丹明B-硅钼杂多酸．PVA光度法、乙基罗丹明B-硅钼杂多酸．阿拉伯树胶体系分光光度法及停流流动注射化学发光法，未见 |
| 关 键 词： | 硅 痕量分析 过氧化氢 硫酸耐尔蓝 催化褪色光度法 |
| 修稿时间： | 2003年4月19日 |
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