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| 干法显影的电子束抗蚀剂——聚环己烯砜叠氮系 | |
| 引用本文： | 杨永源,冯树京,高志民,电子束光刻组.干法显影的电子束抗蚀剂——聚环己烯砜叠氮系[J].影像科学与光化学,1986,4(2):1-6. |
| 作者姓名： | 杨永源 冯树京 高志民 电子束光刻组 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院感光化学研究所;2. 中国科学院半导体研究所 |
| 摘 要： | 本文研究了用四氟化碳-氧等离子体进行干法显影的电子束刻蚀技术。负型电子束抗蚀剂是由聚环己烯砜和2,6-双-(4'-叠氮苯亚甲基)-4-甲基环己酮组成,其灵敏度为1.5×10-5C/cm2,分辨率小于1μm,反差约1.43。并讨论了干法显影的影响因素和机理。 |
| 收稿时间： | 1985-03-26 |
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