感半导体激光菁染料稳定性的研究

菁染料因其具有容易合成、价格便宜、光学特性好等优点,在感光胶片中已大量应用,在有机光盘中也越来越受到人们的重视。但是,由于长链的菁染料在光照下极易发生光氧化还原反应,稳定性较差,因此研究和解决菁染料的光稳定性对其在激光照排材料和有机光盘中的应用都具有非常重要的意义。