| 酸增殖剂研究进展 |
| |
| 引用本文： | 王文君,张改莲,王力元,余尚先.酸增殖剂研究进展[J].影像科学与光化学,2003,21(4):296-302. |
| |
| 作者姓名： | 王文君 张改莲 王力元 余尚先 |
| |
| 作者单位： | 北京师范大学, 化学系, 北京, 100875 |
| |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
| |
| 摘 要： | 本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍.并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍.
|
| 关 键 词： | 化学增幅抗蚀剂 酸增殖剂 光致抗蚀剂 感度 |
| 收稿时间： | 2003-03-26 |
THE PROGRESS OF ACID AMPLIFIER INVESTIGATIONS |
| |
| WANG Wen-jun,ZHANG Gai-lian,WANG Li-yuan,YU Shang-xian.THE PROGRESS OF ACID AMPLIFIER INVESTIGATIONS[J].Imaging Science and Photochemistry,2003,21(4):296-302. |
| |
| Authors: | WANG Wen-jun ZHANG Gai-lian WANG Li-yuan YU Shang-xian |
| |
| Institution: | Chemistry Department, Beijing Normal University, Beijing 10875, P.R. China |
| |
| Abstract: | This article reviews the various acid amplifiers which can effectively elevate the photosensitivity in the chemically amplified photoresist systems and their reaction mechanism of acid amplification.The application prospect,existing problem and future improvement of these materials are also discussed. |
| |
| Keywords: | chemically amplified photoresist acid amplifier photosensitivity |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《影像科学与光化学》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《影像科学与光化学》下载免费的PDF全文 |
|
