| 电气材料铜及铜合金中痕量杂质砷元素的氢化物发生-原子荧光光谱法测定 |
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| 引用本文： | 曾晓亮,侯贤灯,龙舟.电气材料铜及铜合金中痕量杂质砷元素的氢化物发生-原子荧光光谱法测定[J].化学研究与应用,2015,27(3). |
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| 作者姓名： | 曾晓亮 侯贤灯 龙舟 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学化学学院,四川成都,610064
2. 四川大学分析测试中心,四川成都,610064 |
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| 摘 要： | 本文建立了氢化物发生-原子荧光光谱法测定电气材料铜及铜合金中痕量杂质元素砷的方法。通过使用L-半胱氨酸与铜基体形成络合物,抗坏血酸充分预还原砷,消除了基体干扰,并实现了铜及铜合金中痕量杂质砷的准确测定。在经过优化的实验条件下,砷的检出限为0.12 ng·m L-1,线性相关系数优于0.999,相对标准偏差小于4%。用加标回收法测定实际样品,回收率在92%到103%之间。该法操作简便,灵敏度高,无需基体预分离。
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| 关 键 词： | 电气材料 铜 原子荧光 砷 L-半胱氨酸 |
Determination of trace arsenic in electrical materials of copper and copper alloy by hydride generation-atomic fluorescence spectrometry |
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| ZENG Xiao-liang,HOU Xian-deng,LONG Zhou.Determination of trace arsenic in electrical materials of copper and copper alloy by hydride generation-atomic fluorescence spectrometry[J].Chemical Research and Application,2015,27(3). |
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| Authors: | ZENG Xiao-liang HOU Xian-deng LONG Zhou |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electrical materials copper atomic fluorescence spectrometry arsenic L-cysteine |
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