| 甲苯—2,4—二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料？… |
| |
| 引用本文： | 陈光明,漆宗能.甲苯—2,4—二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料？…[J].高分子学报,2000,20(5):599-603. |
| |
| 作者姓名： | 陈光明 漆宗能 |
| |
| 作者单位： | [1]中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室 [2]中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重点基金资助项目!(基金号59833310) |
| |
| 摘 要： | 用ＦＴＩＲ和ＷＡＸＤ法研究了甲苯－２，４－二异氰酸酯（ＴＤＩ）的邻位和对位异氰酸酯基因与蒙脱土表面羟基的修饰反应，在此基础上提出了结构模型；用ＴＤＩ修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料，并用ＷＡＸＤ和ＴＥＭ进行了表征。实验结果表明，修饰后ＴＤＩ与蒙脱土表面形成化学键，使蒙脱土的片层间距显著增大，十六烷基三甲基溴化铵（ＣＴＡＢ）在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式
|
| 关 键 词： | 蒙脱土 聚苯乙烯 纳米复合材料 TDI修饰 制备 |
MODIFICATION OF MONTMORILLONITE WITH TOLUENE-2,4-DI-
ISOCYANATE AND PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF
POLYSTYRENE/MONTMORILLONITE NANOCOMPOSITE |
| |
| CHEN Guangming,MA Yongmei,QI Zongneng.MODIFICATION OF MONTMORILLONITE WITH TOLUENE-2,4-DI-
ISOCYANATE AND PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF
POLYSTYRENE/MONTMORILLONITE NANOCOMPOSITE[J].Acta Polymerica Sinica,2000,20(5):599-603. |
| |
| Authors: | CHEN Guangming MA Yongmei QI Zongneng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Montmorillonite Toluene-2 4-di-isocyanate Polystyrene Composite |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
