| 氟硼二异吲哚类化合物的合成及光学性能表征 |
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| 引用本文： | 杨晓霞,林智星,蔺卉,蔡良珍,陶晓春.氟硼二异吲哚类化合物的合成及光学性能表征[J].有机化学,2014(7):1429-1436. |
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| 作者姓名： | 杨晓霞 林智星 蔺卉 蔡良珍 陶晓春 |
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| 作者单位： | 东华大学化学化工与生物工程学院;华东理工大学化学与分子工程学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.81102314);上海市自然科学基金(No.11ZR1400300);高等学校博士学科点专项科研基金(No.20120074120008)资助项目~~ |
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| 摘 要： | 以取代的苯甲酸乙酯和邻羟基苯乙酮为原料,合成了一系列含卤素取代氟硼二异吲哚类新化合物.这些化合物的结构均通过了1H NMR,HRMS,IR等手段的表征.通过紫外可见吸收光谱和荧光发射光谱测试,化合物均显示较长的紫外吸收及荧光发射波长.取代基对于化合物摩尔消光系数和荧光量子产率以及单线态氧生成能力有明显的影响,其中含CH3O和CF3取代的化合物6b和6f显示了更高的摩尔消光系数,而含Br取代的化合物6e显示高的单线态氧生成能力和中等的荧光量子产率.
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| 关 键 词： | 氟硼二异吲哚 合成 荧光 紫外 单线态氧 |
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