| 新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制 |
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| 引用本文： | 巫文强,柯旭,黄晔,王跃川.新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制[J].应用化学,2007,24(2):134-138. |
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| 作者姓名： | 巫文强 柯旭 黄晔 王跃川 |
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| 作者单位： | 高分子材料工程国家重点实验室,四川大学高分子工程与工程学院,成都,610065 |
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| 基金项目： | 教育部高等学校优秀青年教师教学科研奖励计划 |
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| 摘 要： | 采用环氧树脂改性超支化聚酯制备了玻璃刻蚀用的光刻胶掩膜,研究了该感光树脂的感光活性、耐刻蚀性,以及加入HCI、HNO_3后刻蚀对玻璃刻蚀的影响。结果表明,所得感光树脂对玻璃有较好的附着力,厚度为40～50μm的胶膜在ω(HF)为40％的溶液中抗浮胶时间超过6 min,光刻胶初始曝光时间T_0为2．7 s,反差值γ_(gel)为2．8;混合刻蚀剂对载玻片玻璃的刻蚀速度≥35μm/min;以该光刻胶为单层掩膜,可得到线宽50μm的清晰刻蚀图样,玻璃的刻蚀深度超过38μm。
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| 关 键 词： | 玻璃刻蚀 光刻胶 掩膜 超支化聚酯 |
| 文章编号： | 1000-0518(2007)02-0134-05 |
| 修稿时间： | 2006-03-26 |
A New Photoresist For Glass Etching |
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| WU Wen-Qiang,KE Xu,HUANG Ye,WANG Yue-Chuan.A New Photoresist For Glass Etching[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,2007,24(2):134-138. |
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| Authors: | WU Wen-Qiang KE Xu HUANG Ye WANG Yue-Chuan |
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| Institution: | State Key Lab for Polymer Materials Engineering, College of Polymer Science and Engineering, Sichuan University, Chengdu 610065 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | glass etching photoresist mask film hyperbranched polyester |
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