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| 砷锑铋对阴极铜沉积过程的影响 | |
| 引用本文： | 鲁道荣,李学良.砷锑铋对阴极铜沉积过程的影响[J].应用化学,1998,15(2):56-59. |
| 作者姓名： | 鲁道荣 李学良 |
| 作者单位： | 合肥工业大学化工学院 |
| 摘 要： | 用线性电位扫描、ＸＰＳ、ＸＲＤ等方法，研究了砷锑铋离子对酸性硫酸铜系统中铜沉积反应动力学及铜沉积层成份与结构的影响．研究表明：Ａｓ（Ⅴ）离子能增大铜沉积反应的交换电流密度，对铜沉积过程起去极化作用；Ｓｂ（Ⅲ）、Ｂｉ（Ⅲ）离子均使铜沉积反应交换电流密度减小，对铜沉积过程起极化作用；但砷锑铋离子不改变铜沉积反应的机理．测试表明：用２００Ａ／ｍ２电流密度电解，砷锑铋不会在阴极沉积，也不影响铜沉积层的晶面择优取向（２２０）；用１５００Ａ／ｍ２电流密度电解，发现砷与铋在阴极与铜共沉积，铜沉积层的晶面择优取向变为（１１１），沉积层中铜主要以金属Ｃｕ和少量Ｃｕ２Ｏ形式存在，铋主要以Ｂｉ２Ｏ３形式存在． |
| 关 键 词： | As（Ⅴ），Sb（Ⅲ），Bi（Ⅲ），电解法制铜，交换电流密度，极化，晶面择优取向 |
| 收稿时间： | 1997-08-12 |
The Effects of As, Sb and Bi on the Cathodic Copper Deposition |
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| Lu Daorong,Li Xueliang,Lin Jianxin.The Effects of As, Sb and Bi on the Cathodic Copper Deposition[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,1998,15(2):56-59. | |
| Authors: | Lu Daorong Li Xueliang Lin Jianxin |
| Abstract: | |
| Keywords: | arsenic antimony bismuth electrorefining copper exchange current density polarization predominant crystal orientation |
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