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p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性
引用本文:李爱昌,张国庆.p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性[J].应用化学,1998,15(3):35-38.
作者姓名:李爱昌  张国庆
作者单位:廊坊师范专科学校化学系,天津大学应用化学系
摘    要:研究了p-Si上恒电流沉积Ni-W-P合金薄膜组成与结构的关系,讨论了镀层的组成、结构随沉积时间的变化.测定了非晶合金的晶体结构随热处理温度的改变以及DTA曲线,结果表明,非晶Ni-W-P合金在晶化过程中形成两个纳米超微晶相,非晶Ni-W-P薄膜的热稳定性远高于通常使用的非晶Ni-P薄膜.

关 键 词:p-Si,电沉积Ni-W-P薄膜,结构,热稳定性
收稿时间:1997-11-21

Structure and the Thermal Stability of Electrodeposited Ni-W-P Alloy-Films on Silicon
Li Aichang,Zhang Guoqing,Liu Bing.Structure and the Thermal Stability of Electrodeposited Ni-W-P Alloy-Films on Silicon[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,1998,15(3):35-38.
Authors:Li Aichang  Zhang Guoqing  Liu Bing
Abstract:
Keywords:p-type silicon  electrodeposited Ni-W-P film  structure  thermal stability  
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