| 有机多膦酸的电抛光性能及电抛光粘液膜的组成 |
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| 引用本文： | 方景礼,丁建平.有机多膦酸的电抛光性能及电抛光粘液膜的组成[J].应用化学,1990,7(1):53-57. |
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| 作者姓名： | 方景礼 丁建平 |
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| 作者单位： | 南京大学应用化学研究所，南京大学应用化学研究所，南京大学应用化学研究所 南京 210008，南京 210008，南京 210008 |
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| 摘 要： | 对5种有机多膦酸的电抛光效果研究表明,1-羟基乙叉-1,1-二膦酸,(HEDP),1-己膦基乙叉-1,1-二膦酸(EEDP)和N,N’-二甲叉膦酸甘氨酸(DMPG)可用于铜和铜合金的电抛光,其中HEDP的效果最好。在不同pH和不同成分(H_3PO_4.HEDP和H_3PO_4 HEDP)的电抛光液中在铜表面均观察到粘液膜的形成,它易用水洗去。XPS’_n检测表明,电抛光铜的表面无磷存在。 由H_3PO_4 HEDP电抛光液得到的粘液膜具有很好的成膜性能,从-Ar~ 溅射剥蚀曲线的恒定组成区求得固化粘液膜的组成与多核聚合配合物〔Cu_4(PO)_4(HEDP)〕_n接近。
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| 关 键 词： | 有机多膦酸 电抛光 x-射线光电子能谱 铜 |
| 收稿时间： | 1989-04-11 |
ELECTROPOLISHING BEHAVIOR OF ORGANOPHOSPHONIC ACID AND CQMPOSITION OF VISCOUS FILM ON ELECTROPOLISHED COPPER SURFACE |
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| Fang Jingli,Ding Jianping,Wu Naijun Institute of Applied Chemistry,Nanjing University,Nanjing.ELECTROPOLISHING BEHAVIOR OF ORGANOPHOSPHONIC ACID AND CQMPOSITION OF VISCOUS FILM ON ELECTROPOLISHED COPPER SURFACE[J].Chinese Journal of Applied Chemistry,1990,7(1):53-57. |
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| Authors: | Fang Jingli Ding Jianping Wu Naijun Institute of Applied Chemistry Nanjing University Nanjing |
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| Institution: | Fang Jingli,Ding Jianping,Wu Naijun Institute of Applied Chemistry,Nanjing University,Nanjing 210008 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | organopolyphosphonic acid electropolishing XPS copper |
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