可逆加成-断裂链转移沉淀聚合法制备木犀草素分子印迹聚合物及其表征 |
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引用本文: | 苏立强,楚善明,谢鹏,王媛媛.可逆加成-断裂链转移沉淀聚合法制备木犀草素分子印迹聚合物及其表征[J].分析科学学报,2019,35(1). |
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作者姓名: | 苏立强 楚善明 谢鹏 王媛媛 |
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作者单位: | 齐齐哈尔大学化学与化学工程学院,黑龙江齐齐哈尔,161006;齐齐哈尔大学化学与化学工程学院,黑龙江齐齐哈尔,161006;齐齐哈尔大学化学与化学工程学院,黑龙江齐齐哈尔,161006;齐齐哈尔大学化学与化学工程学院,黑龙江齐齐哈尔,161006 |
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摘 要: |
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关 键 词: | 分子印迹技术 可逆加成-断裂链转移自由基聚合 沉淀聚合 木犀草素 |
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