| 低温合成纳米α-Si3N4材料及结构表征 |
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| 引用本文： | 杜伟坊,杜海清.低温合成纳米α-Si3N4材料及结构表征[J].无机化学学报,1996,12(1):7-11. |
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| 作者姓名： | 杜伟坊 杜海清 |
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| 作者单位： | 湖南师范大学化学系 长沙410081
(杜伟坊)，湖南大学化工系 长沙410082(杜海清) |
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| 基金项目： | 湖南师范大学科研基金，国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 本文报道在机械驱动下力，通过机械合金化途径使氮或氨直接在室温下的逐步细化的，新鲜的，高反应活性的硅界面上充分扩散，形成亚稳态系统，在８００℃真空炉处理后得到纳米α－Ｓｉ３Ｎ４粉末。发现气氛对合成Ｓｉ３Ｎ４纳米粉末有很大影响。在氮气中，高能球磨前硅粉表面形成的氧化膜在高能球磨过程中与氮反应生成Ｓｉ２Ｎ２Ｏ保护层，阻止氮的进一步扩散，使反应产物含有大量未反应的游离硅。在氨气中可以避免生成了Ｓｉ２Ｎ２ｏ
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| 关 键 词： | 纳米材料 合成 氮化硅 硅粉 氮 机械合金化 |
| 收稿时间： | 1994/11/15 0:00:00 |
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