| 射频磁控溅射制备MoS2薄膜及其储锂性能研究 |
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| 引用本文： | 王丽秀,魏林,陶占良,陈军.射频磁控溅射制备MoS2薄膜及其储锂性能研究[J].无机化学学报,2013,29(18). |
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| 作者姓名： | 王丽秀 魏林 陶占良 陈军 |
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| 作者单位： | 南开大学先进能源材料化学教育部重点实验室, 化学化工协同创新中心, 天津 300071;南开大学先进能源材料化学教育部重点实验室, 化学化工协同创新中心, 天津 300071;南开大学先进能源材料化学教育部重点实验室, 化学化工协同创新中心, 天津 300071;南开大学先进能源材料化学教育部重点实验室, 化学化工协同创新中心, 天津 300071 |
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| 基金项目： | 973计划（No.2011CB935900）；国家自然科学基金（No.21231005、51231003）；天津科技计划（No.12ZCZDJC35300、13JCQNJC06400）和先进能源材料化学“111计划”资助项目。 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法，在Ar气-H2S混合气氛中，以MoS2靶材为原料，在泡沫铜基底上制备了MoS2薄膜。利用X射线衍射（XRD）、Raman光谱、扫描电子显微镜（SEM）、能量弥散X射线谱（EDS）等手段对样品的结构、形貌和成分进行了表征，并探讨了靶功率和基底温度对MoS2薄膜的结构及形貌的影响。结果表明，靶功率的增加可以提高薄膜结晶度，但功率过高会造成薄膜的龟裂；基底温度升高会使MoS2薄膜结晶度明显提高，且形成蠕虫状形貌。靶功率为80W，基底温度为300℃时，可以制备得到具有较高结晶度的蠕虫状MoS2薄膜。对其进行充放电测试表明，在100mA·g-1的电流密度下，其首次放电比容量为980mAh·g-1，经过40周循环，容量可保持为约920mAh·g-1，容量保持率达到93.9%。
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| 关 键 词： | MoS2薄膜 射频磁控溅射 锂离子电池 |
Lithium Storage Performance of MoS2 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering |
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| WANG Li-Xiu,WEI Lin,TAO Zhan-Liang and CHEN Jun.Lithium Storage Performance of MoS2 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering[J].Chinese Journal of Inorganic Chemistry,2013,29(18). |
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| Authors: | WANG Li-Xiu WEI Lin TAO Zhan-Liang and CHEN Jun |
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| Institution: | Key Laboratory of Advanced Energy Materials Chemistry-Ministry of Education, Collaborative Innovation Center of Chemical Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China;Key Laboratory of Advanced Energy Materials Chemistry-Ministry of Education, Collaborative Innovation Center of Chemical Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China;Key Laboratory of Advanced Energy Materials Chemistry-Ministry of Education, Collaborative Innovation Center of Chemical Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China;Key Laboratory of Advanced Energy Materials Chemistry-Ministry of Education, Collaborative Innovation Center of Chemical Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MoS2 thin film RF magnetron sputtering Li-ion battery |
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