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弛豫铁电晶体PZNT(001)晶面的腐蚀行为
引用本文:金敏,徐家跃,申慧,陆宝亮.弛豫铁电晶体PZNT(001)晶面的腐蚀行为[J].人工晶体学报,2011,40(2):334-337.
作者姓名:金敏  徐家跃  申慧  陆宝亮
作者单位:上海应用技术学院材料科学与工程学院,上海,200235
基金项目:国家自然科学基金,上海市教育委员会科研创新项目,上海应用技术学院人才引进基金项目
摘    要:采用化学腐蚀方法研究了坩埚下降法生长的PZNT93/ 7晶体(001)晶面的腐蚀行为.在PZNT晶体表面观察到反平行180°原生态铁电畴,在抛光样品表面观察到位错蚀坑、包裹物、机械加工划痕等缺陷形貌,并对腐蚀机理进行了探讨.化学腐蚀还揭示了微观畴的动力学变化,显示畴结构对环境变化十分敏感.

关 键 词:PZNT93/7晶体  化学腐蚀法  畴结构  腐蚀坑  

Etching Behavior on (001) Face of Relaxor Ferroelectric Crystal PZNT
JIN Min,XU Jia-yue,SHEN Hui,LU Bao-liang.Etching Behavior on (001) Face of Relaxor Ferroelectric Crystal PZNT[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(2):334-337.
Authors:JIN Min  XU Jia-yue  SHEN Hui  LU Bao-liang
Institution:JIN Min,XU Jia-yue,SHEN Hui,LU Bao-liang(School of Materials Science and Engineering,Shanghai Institute of Technology,Shanghai 200235,China)
Abstract:
Keywords:PZNT93/7 crystal  chemical etching method  domain structures  etching pits  
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