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射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的微结构及其光学性能
引用本文:夏齐萍,汪小小,吕建国,宋学萍,孙兆奇.射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的微结构及其光学性能[J].人工晶体学报,2011,40(2).
作者姓名:夏齐萍  汪小小  吕建国  宋学萍  孙兆奇
作者单位:1. 安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039
2. 安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039;合肥师范学院物理与电子工程系,合肥,230061
基金项目:国家自然科学基金,教育部博士点专项基金,安徽省人才专项基金,安徽高校省级自然科学研究重点项目
摘    要:采用射频反应磁控溅射技术在石英和Si衬底上制备了高度c轴择优取向的ZnO薄膜,样品的氧氩流量比分别为10:40,20:40,30:40,40:40.利用X射线衍射仪、表面轮廓仪、原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了样品的微结构与光学特性.研究表明:氧氩流量比为30:40的样品结晶质量最好.所制备的ZnO薄膜的可见光平均透射率均大于87%.随着氧氩流量比的增大,薄膜的透射率呈非单调变化,氧氩流量比为30:40的样品在可见光范围的平均透射率可达93%.光学带隙随着氧氩流量比的增大,先增大后减小.与块材ZnO的带隙(3.37 eV)相比,ZnO薄膜的带隙均变窄.

关 键 词:射频反应磁控溅射  ZnO薄膜  微结构  光学性能

Microstructure and Optical Properties of ZnO Films Deposited by Radio-frequency Reactive Magnetron Sputtering
XIA Qi-ping,WANG Xiao-xiao,LV Jian-guo,SONG Xue-ping,SUN Zhao-qi.Microstructure and Optical Properties of ZnO Films Deposited by Radio-frequency Reactive Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(2).
Authors:XIA Qi-ping  WANG Xiao-xiao  LV Jian-guo  SONG Xue-ping  SUN Zhao-qi
Institution:XIA Qi-ping1,WANG Xiao-xiao1,LV Jian-guo1,2,SONG Xue-ping1,SUN Zhao-qi1(1.School of Physics & Material Science,Anhui University,Hefei 230039,China,2.Department of Physics & Electronic Engineering,Hefei Normal University,Hefei 230061,China)
Abstract:
Keywords:RF reactive magnetron sputtering  ZnO thin films  microstructure  optical properties  
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