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GaN微米片的制备及性能研究
引用本文:余春燕,翟化松,申艳强.GaN微米片的制备及性能研究[J].人工晶体学报,2014,43(9):2186-2191.
作者姓名:余春燕  翟化松  申艳强
作者单位:太原理工大学材料科学与工程学院,太原030024;太原理工大学新材料界面科学与工程教育部重点实验室,太原030024
基金项目:山西省自然科学基金(2014011016-6);山西省回国留学人员科研项目(2011-031);山西省留学人员科技活动择优资助([2011]762)
摘    要:通过采用化学气相沉积法(CVD),以金属Ga和NH3为原料,在Si (100)衬底和蓝宝石衬底上采用催化剂Ni合成了GaN微米片.利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X-ray能谱仪(EDS)、光致发光谱(PL)和霍尔效应测试仪(HMS-3000)对样品进行表征.结果表明,生成的微米片为六方纤锌矿结构的GaN;样品在360 nm处有一近带边紫外发射峰,在676 nm处有一个因缺陷引起的弱的红光发射峰;不同衬底上产物GaN的电学性能有所不同.最后,对本实验所得的GaN微米片的形成机理进行了分析.

关 键 词:GaN微米片  Si衬底  蓝宝石衬底  化学气相沉积  

Synthesis and Properties of GaN Micronsheets
YU Chun-yan,ZHAI Hua-song,SHEN Yan-qiang.Synthesis and Properties of GaN Micronsheets[J].Journal of Synthetic Crystals,2014,43(9):2186-2191.
Authors:YU Chun-yan  ZHAI Hua-song  SHEN Yan-qiang
Abstract:
Keywords:
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