基于BP神经网络的Ni-Si_3N_4复合镀层工艺-性能模型预测 |
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引用本文: | 魏汉军,孙万昌,侯冠群,赵坤,张峰,石琴.基于BP神经网络的Ni-Si_3N_4复合镀层工艺-性能模型预测[J].人工晶体学报,2014(9). |
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作者姓名: | 魏汉军 孙万昌 侯冠群 赵坤 张峰 石琴 |
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作者单位: | 西安科技大学材料科学与工程学院; |
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基金项目: | 国家自然科学基金(50172023);2012年榆林市产学研合作项目;2012年国家级大学生创新训练计划项目(201210704058);2013年陕西省大学生创新训练计划项目(1151) |
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摘 要: | 在正交试验的基础上,运用BP神经网络优化脉冲电沉积工艺制备高颗粒含量的Ni-Si3N4复合镀层;并对NiSi3N4复合镀层的微观结构以及高温抗氧化性能进行了表征分析。结果表明,运用BP神经网络优化的最佳工艺条件:颗粒悬浮量为40 g/L,镀液温度为45℃,转速为300 r/min,占空比为60%;该模型所得预测值与试验值曲线吻合较好,其相对误差较小,最大误差不超过3%,相关系数为0.99932。采用该优化工艺制备的Ni-Si3N4复合镀层中Si3N4微粒弥散分布于Ni基质层内部,镀层与基体之间无孔隙、裂纹等缺陷,具有优异的高温抗氧化性能。
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关 键 词: | 脉冲电沉积 Ni-SiN复合镀层 BP神经网络 高温抗氧化涂层 |
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