薄膜厚度对ZnO:Y薄膜结构及光电特性影响 |
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引用本文: | 杨田林,宋淑梅,辛艳青,李延辉,杜桂强,韩圣浩.薄膜厚度对ZnO:Y薄膜结构及光电特性影响[J].人工晶体学报,2012,41(5):1190-1194. |
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作者姓名: | 杨田林 宋淑梅 辛艳青 李延辉 杜桂强 韩圣浩 |
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作者单位: | 山东大学(威海)空间科学与物理学院,威海,264209 |
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基金项目: | 山东省自然科学基金,山东大学自主创新基金 |
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摘 要: | 室温下采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型ZnO∶Y(ZnO掺杂Y2O3,简称ZnO∶Y)透明导电薄膜。研究了薄膜厚度对ZnO∶Y薄膜结构、光电特性的影响。结果表明:不同厚度的ZnO∶Y薄膜均为多晶薄膜,具有ZnO六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向。随薄膜厚度增加,其电阻率减小,当薄膜厚度增至800 nm时,其电阻率为8.36×10-4Ω.cm,迁移率为15.3 cm2.V-1.s-1,载流子浓度为4.88×1020cm-3。不同厚度的薄膜在可见光范围内平均透过率均为90%以上,当薄膜厚度从200 nm增加到800 nm时,薄膜禁带宽度从3.68 eV减小到3.61 eV。
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关 键 词: | 磁控溅射 ZnO∶Y薄膜 电阻率 透过率 |
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