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ZnO薄膜在硫蒸气中热硫化后结构和光学特性
引用本文:张仁刚,卓雯,刘继琼,王红军,高恒.ZnO薄膜在硫蒸气中热硫化后结构和光学特性[J].人工晶体学报,2012,41(6):1700-1704.
作者姓名:张仁刚  卓雯  刘继琼  王红军  高恒
作者单位:武汉科技大学应用物理系,武汉430065;冶金工业过程系统科学湖北省重点实验室,武汉430081;武汉科技大学应用物理系,武汉,430065
基金项目:湖北省教育厅科研计划重点项目,武汉科技大学大学生科技创新基金研究项目,冶金工业过程系统科学湖北省重点实验室开放基金项目
摘    要:采用射频反应磁控溅射沉积了ZnO薄膜,然后在硫蒸气中于500 ℃硫化得到ZnS薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见透射光谱、俄歇电子能谱(AES)和多普勒展宽谱对薄膜进行了表征.ZnO硫化转变依赖于硫化时间.当硫化时间小于18 h时,ZnO只能部分转变为ZnS.只有当硫化时间等于或大于18h时,才能完全生成六方相ZnS薄膜,沿(0 0 10)晶面择优生长,硫化前后薄膜晶粒尺寸有显著变化.所得ZnS薄膜光吸收边宽化、光透过率低,ZnS薄膜带隙为3.54~3.66 eV.

关 键 词:ZnS薄膜  溅射  硫化  

Structural and Optical Properties of ZnO Thin Films after Thermal Sulfidation in Sulfur Vapor
ZHANG Ren-gang , ZHUO Wen , LIU Ji-qiong , WANG Hong-jun , GAO Heng.Structural and Optical Properties of ZnO Thin Films after Thermal Sulfidation in Sulfur Vapor[J].Journal of Synthetic Crystals,2012,41(6):1700-1704.
Authors:ZHANG Ren-gang  ZHUO Wen  LIU Ji-qiong  WANG Hong-jun  GAO Heng
Institution:1(1.Department of Applied Physics,Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430065,China; 2.Hubei Province Key Laboratory of Systems Science in Metallurgical Process,Wuhan 430081,China)
Abstract:
Keywords:
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