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底部籽晶法:一种高温溶液晶体生长新方法
引用本文:徐家跃.底部籽晶法:一种高温溶液晶体生长新方法[J].人工晶体学报,2005,34(1):1-6.
作者姓名:徐家跃
作者单位:中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050
基金项目:中国科学院重大项目(KY951 A1 205 03),创新前沿项目,上海市自然科学基金重点项目 (98JC14017、02DJ14041 ),国家自然 科学基金项目(No. 59672002),上海市科技启明星计划资助项目(95QE14029)
摘    要:为了从高温溶液中生长非一致熔融的单晶材料,发展了一种叫做"底部籽晶法"的新生长方法.通过设计大的垂直温度梯度,解决了助熔剂或高温溶液对籽晶的侵蚀问题;采用后加热系统,有效地控制了晶体的开裂.采用底部籽晶法,成功地生长了新型弛豫铁电晶体(1-x)Pb(Zn1/3Nb2/3)O3-xPbTiO3(0≤x≥0.2)、近化学计量比LiNbO3晶体以及非线性光学晶体铌酸钾锂K3Li2-xNb5+xO15+2x(0
关 键 词:底部籽晶体法  化学计量比  晶体生长  助熔剂  
文章编号:1000-985X(2005)01-0001-06
修稿时间:2004年5月11日

Bottom Seeded Solution Growth:a Novel Crystal Growth Technique
XU Jia-yue.Bottom Seeded Solution Growth:a Novel Crystal Growth Technique[J].Journal of Synthetic Crystals,2005,34(1):1-6.
Authors:XU Jia-yue
Abstract:
Keywords:bottom seeded solution growth  stoichiometry  crystal growth  flux
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