| 膜厚对Nd掺杂钙锶铋钛铁电薄膜结构及性能的影响 |
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| 引用本文： | 范素华,张伟,王培吉,张丰庆,冯博楷,马建平.膜厚对Nd掺杂钙锶铋钛铁电薄膜结构及性能的影响[J].人工晶体学报,2008,37(2):466-470. |
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| 作者姓名： | 范素华 张伟 王培吉 张丰庆 冯博楷 马建平 |
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| 作者单位： | 1. 山东建筑大学材料科学与工程学院,济南,250101
2. 济南大学理学院,济南,250022 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金
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国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 采用Sol-gel法和层层快速退火工艺在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备了厚度不同Nd掺杂的钙锶铋钛(C0.4S0.6NT)铁电薄膜.研究了单层膜厚和总膜厚对于薄膜的(200)择优取向、显微结构及铁电性能的影响.发现:恰当的单层膜厚度,有助于薄膜(200)峰的择优取向和铁电性能;单层膜厚度约为60 nm,总厚度约为420 nm时,C0.4S0.6NT薄膜的,I(200)/I(119) I(001)]相对强度较大,a轴取向的晶粒较多,具有较好的铁电性能,剩余极化(Pr)和矫顽场(Ec)分别为13.251μC/cm2,85.248 kV/cm.
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| 关 键 词： | 钙锶铋钛薄膜 Nd掺杂 铁电性能 Sol-gel法 膜厚 |
| 文章编号： | 1000-985X(2008)02-0466-05 |
| 修稿时间： | 2007年7月5日 |
Dependences of Film Thickness on Structure and Properties of Nd Doping Calcium Strontium Bismuth Titanium Ferroelectric Film |
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| FAN Su-hua,ZHANG Wei,WANG Pei-ji,ZHANG Feng-qing,FENG Bo-kai,MA Jian-ping.Dependences of Film Thickness on Structure and Properties of Nd Doping Calcium Strontium Bismuth Titanium Ferroelectric Film[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(2):466-470. |
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| Authors: | FAN Su-hua ZHANG Wei WANG Pei-ji ZHANG Feng-qing FENG Bo-kai MA Jian-ping |
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