| Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究 |
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| 引用本文： | 张寅,王弘,尚淑霞,王少伟,王民,齐尚奎,刘希玲.Bi4Ti3O12铁电薄膜X射线光电子能谱研究[J].人工晶体学报,2000,29(2):168-170. |
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| 作者姓名： | 张寅 王弘 尚淑霞 王少伟 王民 齐尚奎 刘希玲 |
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| 作者单位： | 山东教育学院,济南,250013;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;中国科学院兰州化学物理研究所,国家重点实验室,兰州,730000;山东教育学院,济南,250013 |
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| 基金项目： | 教育部科学技术研究项目，国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 本文采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,这种薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性.运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,衬底中Si向镀在其上的Bi4Ti3O12膜层内扩散,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度.
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 化学溶液沉积法 X射线光电子能谱 Si扩散 |
| 修稿时间： | 2000-01-10 |
Study on Bi4Ti3O12 Ferroelectric Thin Film Structure with XPS Spectra |
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| ZHANG Yin,WANG Hong,SHANG Shu-xia,WANG Shao-wei,WANG Min,QI Shang-kui,LIU Xi-ling.Study on Bi4Ti3O12 Ferroelectric Thin Film Structure with XPS Spectra[J].Journal of Synthetic Crystals,2000,29(2):168-170. |
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| Authors: | ZHANG Yin WANG Hong SHANG Shu-xia WANG Shao-wei WANG Min QI Shang-kui LIU Xi-ling |
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