|
|||||
|
|
| HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究 | |
| 引用本文： | 贺琦,王宏斌,张树玉,吕反修,杨海,苏小平.HfO2薄膜反应磁控溅射沉积工艺的研究[J].人工晶体学报,2008,37(1):70-75. |
| 作者姓名： | 贺琦 王宏斌 张树玉 吕反修 杨海 苏小平 |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;太原理工大学表面工程研究所,太原,030024 2. 北京有色金属研究总院,北京,100088 3. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 |
| 摘 要： | 采用纯铪(Hf)金属靶,在氧和氩反应气氛中进行了HfO2薄膜反应磁控溅射沉积,研究了电源功率、O2/Ar比例和工作气压对薄膜组成及薄膜沉积过程的影响.对制备的HfO2薄膜进行了退火处理,利用X射线衍射仪(GIXRD)、红外波谱仪(FT-IR)和场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)表征了退火前后HfO2薄膜的显微结构、组织组成及红外透过性能.采用胶带测试测定了HfO2薄膜的附着性能.本研究得到了优化的沉积工艺参数. |
| 关 键 词： | HfO2薄膜 反应磁控溅射沉积 红外透过率 |
| 文章编号： | 1000-985X（2008）01-0070-06 |
| 收稿时间： | 2007-04-07 |
| 修稿时间： | 2007年4月7日 |
Study of the Deposition of HfO2 Thin Films by Reactive Magnetron Sputtering Process |
|
| HE Qi,WANG Hong-bin,ZHANG Shu-yu,LU Fan-xiu,YANG Hai,SU Xiao-ping.Study of the Deposition of HfO2 Thin Films by Reactive Magnetron Sputtering Process[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(1):70-75. | |
| Authors: | HE Qi WANG Hong-bin ZHANG Shu-yu LU Fan-xiu YANG Hai SU Xiao-ping |
| Abstract: | |
| Keywords: | HfO2 thin films reactive magnetron sputtering infrared transmittance |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |