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组分挥发对CBO晶体生长影响研究
引用本文:徐子颉,吴以成,傅佩珍,陈创天.组分挥发对CBO晶体生长影响研究[J].人工晶体学报,2002,31(1):45-48.
作者姓名:徐子颉  吴以成  傅佩珍  陈创天
作者单位:中国科学技术大学化学系,合肥,230026;中国科学院北京人工晶体研究发展中心,北京,100080
摘    要:非线性光学晶体CsB3O5(简称CBO)在生长过程中,原料组分的挥发影响了单晶的生长.本文利用XRD,DTA等手段对挥发物的成分进行表征,结果表明挥发物的主要成分是Cs2O,并探讨了原料组分的挥发对结晶状况的影响,以期探索和优化晶体生长工艺.

关 键 词:非线性光学晶体  CsB3O5  挥发  XRD  
文章编号:1000-985X(2002)01-0045-04
修稿时间:2001年8月22日

Study on the Influence of Volatility on the Growth of CBO Crystal
Abstract:
Keywords:CsB3O5  XRD
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