首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

金刚石薄膜界面状态及其生长过程的研究
引用本文:卢鸿修,胡晋生.金刚石薄膜界面状态及其生长过程的研究[J].人工晶体学报,1991,20(1):27-32.
作者姓名:卢鸿修  胡晋生
摘    要:

关 键 词:金刚石  薄膜  非晶态碳  界面状态
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号