首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

IB族金属掺杂单层MoS_2电子结构的研究
引用本文:伏春平,孙凌涛.IB族金属掺杂单层MoS_2电子结构的研究[J].人工晶体学报,2018(3).
作者姓名:伏春平  孙凌涛
作者单位:重庆文理学院物理系;重庆市高校新型储能器件及应用工程研究中心;重庆市高校微纳米材料工程与技术重点实验室
摘    要:本文基于密度泛函理论框架下的第一性原理,采用数值基组研究了IB族金属Cu,Ag,Au掺杂单层MoS_2的键长畸变、稳定性、能带结构和态密度。探讨了Cu,Ag,Au掺杂对单层MoS_2电子结构的影响;结果表明:Cu,Ag,Au在Mo位掺杂都会导致杂质原子附近的键长发生畸变,但畸变程度略有差异,Cu掺杂体系的稳定性强于Ag,Au在Mo位掺杂的体系;Cu,Ag,Au掺杂致使单层MoS_2的禁带中出现新能级;Cu,Ag,Au在S位吸附的稳定性强于Mo位吸附,对于MoS_2在S位吸附Cu,Ag,Au对其禁带的宽度影响较小;但稳定性最强的都是Au元素的吸附体系。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号