IB族金属掺杂单层MoS_2电子结构的研究 |
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引用本文: | 伏春平,孙凌涛.IB族金属掺杂单层MoS_2电子结构的研究[J].人工晶体学报,2018(3). |
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作者姓名: | 伏春平 孙凌涛 |
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作者单位: | 重庆文理学院物理系;重庆市高校新型储能器件及应用工程研究中心;重庆市高校微纳米材料工程与技术重点实验室 |
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摘 要: | 本文基于密度泛函理论框架下的第一性原理,采用数值基组研究了IB族金属Cu,Ag,Au掺杂单层MoS_2的键长畸变、稳定性、能带结构和态密度。探讨了Cu,Ag,Au掺杂对单层MoS_2电子结构的影响;结果表明:Cu,Ag,Au在Mo位掺杂都会导致杂质原子附近的键长发生畸变,但畸变程度略有差异,Cu掺杂体系的稳定性强于Ag,Au在Mo位掺杂的体系;Cu,Ag,Au掺杂致使单层MoS_2的禁带中出现新能级;Cu,Ag,Au在S位吸附的稳定性强于Mo位吸附,对于MoS_2在S位吸附Cu,Ag,Au对其禁带的宽度影响较小;但稳定性最强的都是Au元素的吸附体系。
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