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蓝宝石衬底材料的研究及应用进展
引用本文:考政晓,叶大千,于璇,张保国.蓝宝石衬底材料的研究及应用进展[J].人工晶体学报,2018,47(1):102-107.
作者姓名:考政晓  叶大千  于璇  张保国
作者单位:河北工业大学电子信息工程学院,天津300401;天津市电子材料与器件重点实验室,天津300401;三安光电股份有限公司,天津,300130
基金项目:河北省高层次人才资助项目百人计划项目(E2013100006);河北省科技计划资助项目(15211017D)
摘    要:蓝宝石因为其生产技术成熟、稳定性好、性价比高而被广泛应用于光电领域,成为GaN基光电器件的主要衬底材料.传统的蓝宝石衬底生长GaN薄膜存在许多问题,如由晶格常数不同产生的晶格失配、热应力失配等,且GaN薄膜结晶质量较差、光线提取效率低.介绍了图形化蓝宝石衬底技术在制作GaN基LED器件中的应用,比较了几种图形化衬底对LED的发光性能的影响.在图形化蓝宝石衬底上采用PVD法生长AlN薄膜,可以降低GaN薄膜的螺旋位错和刃位错、提高MOCVD生长效率、显著提高设备利用率.另外,介绍了蓝宝石衬底在SOS领域的应用,列出了SOS工艺对蓝宝石衬底的具体要求.蓝宝石作为一种重要的衬底材料,未来的发展前景会更加广阔.

关 键 词:图形化蓝宝石衬底  PVD法生长AlN  SOS  

Research and Application Progress of Sapphire Substrates
KAO Zheng-xiao,YE Da-qian,YU Xuan,ZHANG Bao-guo.Research and Application Progress of Sapphire Substrates[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(1):102-107.
Authors:KAO Zheng-xiao  YE Da-qian  YU Xuan  ZHANG Bao-guo
Abstract:
Keywords:
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