| 沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 王宽冒,张沧生,李曼,周阳,王玉强,王侠,彭英才,刘保亭.沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响[J].人工晶体学报,2010,39(1):135-138. |
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| 作者姓名： | 王宽冒 张沧生 李曼 周阳 王玉强 王侠 彭英才 刘保亭 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,保定,071002;河北大学计算中心,保定,071002;河北大学电子信息工程学院,保定,071002 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(No.60876055);;河北省自然科学基金项目(E2008000620);;教育部科学技术研究重点项目(No.207013);;河北省应用基础研究计划重点基础研究项目(08965124D) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在(001)SrTiO_3基片上制备了SrRuO_3薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等分析方法系统研究了沉积温度对SrRuO_3薄膜结构、表面形貌及输运性质的影响.实验结果表明:当生长温度低于550 ℃时,SrRuO_3薄膜为多晶结构;当温度在550～650 ℃范围内变化时,SrRuO_3薄膜可以在SrTiO_3基片上外延生长,薄膜的最低电阻率约为0.5 mΩ·cm.
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| 关 键 词： | SrRuO_3 磁控溅射 外延薄膜 |
Effect of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of SrRuO_3 Films Fabricated by Magnetron Sputtering |
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| WANG Kuan-mao,ZHANG Cang-sheng,LI Man,ZHOU Yang,WANG Yu-qiang,WANG Xia,PENG Ying-cai,LIU Bao-ting.Effect of Deposition Temperature on the Structural and Physical Properties of SrRuO_3 Films Fabricated by Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2010,39(1):135-138. |
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| Authors: | WANG Kuan-mao ZHANG Cang-sheng LI Man ZHOU Yang WANG Yu-qiang WANG Xia PENG Ying-cai LIU Bao-ting |
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| Institution: | 1.College of Physics Science and Technology;Hebei University;Baoding 071002;China;2.Center of Computer Science;3.College of Electronic and Information Engineering;China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SrRuO3 magnetron sputtering epitaxial flim |
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