首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

磷钨酸掺杂高比表面积g-C3N4催化剂的制备及其光催化性能
引用本文:张杰,蔡天凤,李会鹏,赵华.磷钨酸掺杂高比表面积g-C3N4催化剂的制备及其光催化性能[J].人工晶体学报,2019,48(1):101-109.
作者姓名:张杰  蔡天凤  李会鹏  赵华
作者单位:辽宁石油化工大学化学化工与环境学部,抚顺,113001
基金项目:辽宁省自然科学基金(201202019)
摘    要:以三聚氰胺、磷钨酸(HPW)为原料SBA-15为模板剂,成功制备了HPW掺杂高比表面积g-C3 N4.采用傅里叶红外变换(FTIR)光谱、X射线衍射(XRD)光谱、X光电子能谱(XPS)、氮气吸附脱附(BET)、扫描电镜(SEM)、紫外可见(UV-Vis)漫反射光谱、荧光(PL)光谱进行表征.结果表明,比表面积的增加以及HPW的掺杂均能够提高催化剂的光催化性能,降低带隙能,降低光生电子-空穴的复合几率.以罗丹明B(RhB)为考察对象,对催化剂在氙灯照射下的催化活性以及稳定性进行考察.结果表明,HPW掺杂的高比表面积g-C3 N4催化活性最高,反应速率常数为0.0269 min-1,是块状g-C3 N4的13倍,且循环使用4次后的光降解活性几乎不变.以叔丁醇、对苯醌、乙二胺四乙酸二钠为自由基(·OH)、自由基(·O2-)和空穴(h+VB)的捕获剂,研究了光催化反应机理.

关 键 词:磷钨酸(HPW)掺杂  高比表面积g-C3N4  光催化性能  罗丹明B(RhB)  

Preparation of High Specific Surface Area g-C3 N4 Doping by Phosphotungstic Acid and Its Photocatalytic Properties
ZHANG Jie,CAI Tian-feng,LI Hui-peng,ZHAO Hua.Preparation of High Specific Surface Area g-C3 N4 Doping by Phosphotungstic Acid and Its Photocatalytic Properties[J].Journal of Synthetic Crystals,2019,48(1):101-109.
Authors:ZHANG Jie  CAI Tian-feng  LI Hui-peng  ZHAO Hua
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号