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MOCVD生长温度对氧化锌薄膜结构及发光性能的影响
引用本文:王振华,杨安丽,刘祥林,魏鸿源,焦春美,朱勤生,杨少延,王占国.MOCVD生长温度对氧化锌薄膜结构及发光性能的影响[J].人工晶体学报,2010,39(1):34-38.
作者姓名:王振华  杨安丽  刘祥林  魏鸿源  焦春美  朱勤生  杨少延  王占国
作者单位:中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室,北京,100083
基金项目:Project supported by the National Natural Science Foundation of China(No.60506002,60776015);;the Special Funds for MajorState Basic Research Project (973) of China(No.2006CB604907);;the 863 High Technology R &D Program of China(No.2007AA03Z402,2007AA03Z451)
摘    要:利用甲醇做氧源,采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)工艺在硅(111)衬底上生长了一系列的氧化锌薄膜,生长温度为400~600 ℃.薄膜的表面形貌及晶体质量分别利用场发射扫描电镜及X射线衍射仪进行了测量.研究表明:随着生长温度的降低,在X射线衍射图谱中氧化锌(101)峰取代了(002)峰成为了主峰.这可能是由于温度过低使得甲醇未完全分解,而甲醇分子抑制了氧化锌沿c轴极性过快的生长所致.室温光致发光光谱结果表明在较高生长温度下获得的样品具有良好的光学性质,发光强度随着温度的降低而降低.

关 键 词:ZnO  甲醇  MOCVD  生长温度  

Effect of Growth Temperature on the Structural and Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD
WANG Zhen-hua,YANG An-li,LIU Xiang-lin,WEI Hong-yuan,JIAO Chun-mei,ZHU Qin-sheng,YANG Shao-yan,WANG Zhan-guo.Effect of Growth Temperature on the Structural and Optical Properties of ZnO Films Grown by MOCVD[J].Journal of Synthetic Crystals,2010,39(1):34-38.
Authors:WANG Zhen-hua  YANG An-li  LIU Xiang-lin  WEI Hong-yuan  JIAO Chun-mei  ZHU Qin-sheng  YANG Shao-yan  WANG Zhan-guo
Institution:State Key Laboratory for Superlattices and Microstructures;Institute of Semiconductors;Chinese Academy of Sciences;Beijing 100083;China
Abstract:
Keywords:ZnO  methanol  MOCVD  growth temperature  
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