| 氧化物晶体与薄膜最新研究进展 |
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| 引用本文： | 木村秀夫,赵洪阳,姚启文,程振祥,王小林.氧化物晶体与薄膜最新研究进展[J].人工晶体学报,2011,40(3). |
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| 作者姓名： | 木村秀夫 赵洪阳 姚启文 程振祥 王小林 |
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| 作者单位： | 1. 日本国立物质材料研究机构,筑波,3050047
2. 澳大利亚卧龙岗大学电子材料研究所,新南威尔士州2519 |
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| 基金项目： | grants from JSPS Grant-in-Aid for Scientific Research (C)，Grant-in-Aid for JSPS Fellows，JSPS and ARC under Japan-Australia Research Cooperative Program |
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| 摘 要： | 在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛.到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度.近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化.本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向.
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| 关 键 词： | 体晶体 薄膜 压电性 铁电性 多铁性 光催化 |
Research Progress on Oxide Crystals and Thin Films |
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| KIMURA Hideo,ZHAO Hong-yang,YAO Qi-wen,CHENG Zhen-xiang,WANG Xiao-lin.Research Progress on Oxide Crystals and Thin Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(3). |
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| Authors: | KIMURA Hideo ZHAO Hong-yang YAO Qi-wen CHENG Zhen-xiang WANG Xiao-lin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | bulk crystals thin films piezoelectric ferroelectric multiferroic photocatalyst |
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