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退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响
引用本文:汪洪,苏凤莲,周圣明,宋学平,刘艳美,李爱侠,尹平,孙兆奇.退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响[J].人工晶体学报,2006,35(3):660-665.
作者姓名:汪洪  苏凤莲  周圣明  宋学平  刘艳美  李爱侠  尹平  孙兆奇
作者单位:1. 安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室,合肥,230039
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
基金项目:安徽省优秀青年科技基金(No.00047208),安徽省高校学术技术带头人后备人选科研基金
摘    要:采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响。X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高。室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射。在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰。空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射。实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质。

关 键 词:ZnO薄膜  磁控溅射  X射线衍射  光致发光
文章编号:1000-985X(2006)03-0660-06
收稿时间:12 5 2005 12:00AM
修稿时间:2005-12-05

Effects of Annealing on the Structure and Photoluminescence of ZnO Thin Films Grown on Silicon Substrate
WANG Hong,SU Feng-lian,ZHOU Sheng-ming,SONG Xue-ping,LIU Yan-mei,LI Ai-xia,YIN ping,SUN Zhao-qi.Effects of Annealing on the Structure and Photoluminescence of ZnO Thin Films Grown on Silicon Substrate[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(3):660-665.
Authors:WANG Hong  SU Feng-lian  ZHOU Sheng-ming  SONG Xue-ping  LIU Yan-mei  LI Ai-xia  YIN ping  SUN Zhao-qi
Institution:1. Anhui Key Laboratory of Information Materials and Devices, School of Physics and Material Science, Anhui University, Hefei 230039, China; 2. Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
Abstract:
Keywords:ZnO films  magnetron sputtering  X-ray diffraction  optical properties
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