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硬质合金基体上钛过渡层碳化条件对金刚石薄膜附着力的影响
引用本文:王传新,汪建华,满卫东,马志斌,王升高,傅朝坤,李克林,康志成.硬质合金基体上钛过渡层碳化条件对金刚石薄膜附着力的影响[J].人工晶体学报,2004,33(6):1048-1051.
作者姓名:王传新  汪建华  满卫东  马志斌  王升高  傅朝坤  李克林  康志成
作者单位:武汉化工学院省微波等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031;武汉化工学院省微波等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;自贡硬质合金有限公司,自贡,643011;中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031
基金项目:湖北省科技攻关计划 (No .2 0 0 2AA1 0 5A0 2 )资助项目
摘    要:以WC-6;Co为基体,采用磁控溅射法,在酸蚀后进行氢等离子体脱碳试样上制备Ti过渡层,然后碳化过渡层为TiC.在电子辅助热丝化学气相沉积装置中制备金刚石薄膜.研究碳化条件对金刚石薄膜与基体附着力的影响.结果表明,在700℃左右的低温碳化,TiC结构致密,而在850℃左右的高温碳化,TiC呈疏松的多孔组织,在CH4-Ar等离子体中碳化则850℃左右仍能获得致密的TiC层.在致密的过渡层上沉积的金刚石薄膜具有更高的附着力.

关 键 词:硬质合金  HFCVD  金刚石薄膜  Ti过渡层  
文章编号:1000-985X(2004)06-1048-04

Effect of the Carbonization Conditions on the Adhesion of Diamond Film on Cemented Carbide
WANG Chuan-xin.Effect of the Carbonization Conditions on the Adhesion of Diamond Film on Cemented Carbide[J].Journal of Synthetic Crystals,2004,33(6):1048-1051.
Authors:WANG Chuan-xin
Institution:WANG Chuan-xin~
Abstract:
Keywords:cemented carbide  HFCVD  diamond film  Ti interlayer
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