| 氮离子注入硅表面的力学性能及其微摩擦磨损行为研究 |
| |
| 引用本文： | 张德坤,葛世荣,王世博,王庆良.氮离子注入硅表面的力学性能及其微摩擦磨损行为研究[J].摩擦学学报,2006,26(4):289-294. |
| |
| 作者姓名： | 张德坤 葛世荣 王世博 王庆良 |
| |
| 作者单位： | 中国矿业大学,材料科学与工程学院,江苏,徐州,221008 |
| |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)，国家自然科学基金，教育部优秀青年教师资助计划 |
| |
| 摘 要： | 以单晶硅作为研究对象,选用离子注入剂量分别为5 ×1014 ions/cm2、6 ×1015ions/cm2和1 ×1017ions/cm2,注入能量为110 keV的氮离子注入单晶硅片,利用原位纳米力学测试系统对氮离子注入前后单晶硅片的硬度和弹性模量进行测定,在UMT-2型微摩擦磨损试验机上对氮离子注入前后单晶硅片的往复滑动微摩擦磨损性能进行研究.结果表明,氮离子注入后单晶硅片的纳米硬度和弹性模量减小,且注入剂量越大,其降低越明显.氮离子注入后单晶硅片的减摩性能提高,其摩擦系数大幅度降低,在载荷达到一定值后,氮离子注入层被迅速磨穿,摩擦系数迅速增加并产生磨痕.其磨损机制在小载荷下以粘着磨损为主,在大载荷下以材料的微疲劳和微断裂为主.
|
| 关 键 词： | 单晶硅 离子注入 摩擦磨损性能 |
| 文章编号： | 1004-0595（2006）04-0289-06 |
| 收稿时间： | 2005-07-14 |
| 修稿时间： | 2005-09-15 |
Nano-mechanics and Micro-tribological Behavior of N+ -implanted Silicon |
| |
| ZHANG De-kun,GE Shi-rong,WANG Shi-bo,WANG Qing-liang.Nano-mechanics and Micro-tribological Behavior of N+ -implanted Silicon[J].Tribology,2006,26(4):289-294. |
| |
| Authors: | ZHANG De-kun GE Shi-rong WANG Shi-bo WANG Qing-liang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | MEMS |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《摩擦学学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《摩擦学学报》下载免费的PDF全文 |
|
